第二十九章:因为他们别无选择(1/5)
1997年11月,魔都,渊基地。深秋的魔都,已有了几分凛冽的寒意。但渊基地的总装大厅里,却是一片热火朝天的景象。
距离谢建军定下的十二月之期,只剩不到六周时间。拂晓二代的整机联调和优化工作,进入了最紧张、最关键的冲刺阶段。
与初代拂晓相比,二代机的外观变化并不大,但内部核心子系统,已经经历了脱胎换骨的升级。
新的投影物镜系统,采用了更大数值孔径(NA0.85)的设计,镜片数量更多,曲面更复杂,加工和装配难度呈指数级上升。
浸没单元也经过了重新设计,液体流速更快,温控精度更高,对密封和抗污染的要求更加严苛。
工件台系统则换装了全新的直线电机,和磁悬浮减震系统,定位精度和运动平稳性,都有了显著提升。
此刻,秦师傅正带着几位核心骨干,围在主控台前,进行着今晚的第三次整机联调。
每个人脸上都带着掩饰不住的疲惫,但眼神却依然锐利,紧紧盯着屏幕上跳动的各项参数。
“浸没单元,液体循环稳定,温控精度±0.005℃,气泡含量低于检出限。”负责浸没系统的工程师报告。
“工件台系统,空载定位精度优于3纳米,带载重复定位精度优于5纳米。”负责工件台的工程师紧随其后。
“投影物镜系统,波像差检测完成,优于入/35,达到设计指标。”光学组的负责人声音带着一丝激动。
“照明系统,输出功率稳定,光束均匀度达标。”
一项项自检报告,如同战前点兵,清晰而有力。每一个达标的背后,都是无数个不眠之夜,和无数次推倒重来的艰辛。
秦师傅没有立刻下令,开始曝光测试。他走到那台崭新的投影物镜前,俯下身,用一块特制的麂皮,小心翼翼地擦拭着物镜最下端,那片暴露在空气中的镜片表面。
尽管那里理论上应该一尘不染。这是他多年来养成的习惯,一种近乎偏执的,对精度的敬畏。
做完这一切,他才直起身,走到主控台前,深吸一口气,沉声道:“开始吧。”
一枚刻有更加精细测试图形的十二英寸硅片,被机械臂无声地送入工件台。
浸没单元启动,一层厚度精确、温度恒定,流动均匀的超纯水,再次精准地填充在物镜和硅片之间。
激光光源被点亮,深紫外光束经过复杂的光学整形后,穿透那层清澈的水膜,聚焦在硅片表面的光刻胶上。
工件台开始按照预设的程序,进行高速、高精度的步进和扫描曝光。
这一次,扫描速度比初代拂晓快了将近一倍,而那层薄薄的水膜,在如此高速的运动下,依然保持着惊人的稳定性。
时间一分一秒地过去。整个曝光过程,持续了大约十五分钟。
当工件台完成最后一次步进,缓缓回到起始位置时,大厅里,一片死寂。
秦师傅亲自将曝光后的硅片,放入高倍显微镜下。他调整焦距,仔细观察着光刻胶上显现出的,那些比发丝还要细上千百倍的线条。
一秒。
两秒。
三秒。
他的肩膀,几不可察地,微微颤抖了一下。
然后,他缓缓直起身,转过身,看向在场的所有人。
他那张被风霜和岁月刻满痕迹的脸上,肌肉微微抽搐,嘴唇哆嗦了几下,才终于发出声音,那声音嘶哑得几乎听不清,却带着一种足以穿透一切的、火山喷发般的力量。